1、设备名称：mrc943真空溅射镀膜机

2、设备介绍：

mrc943采用独特的卧式结构设计及特殊结构的阴极，可实现高溅射，高均匀性及高靶材有效使用率，适合从研发应用到大批量生产，可沉积介质膜、金属膜等材料，主要用于集成电路制造、平板显示器、low-e玻璃、ito、tft、光刻掩膜版、通讯网络、化合物半导体器件、射频功率器件和光电子器件等。

本系统可分为预真空室、溅射区域、rf离子清洗平台，预真空室具有基片承载盘升降机，使得装卸基片和溅射工艺同时进行，从而实现 “in-line”连续在线工作方式。

3、设备主要参数

   1、设备整体尺寸：1795mm*590mm*210mm（宽*深*高）

2、真空系统：粗抽泵+冷凝泵高真空系统，极限真空达到3*10-7mabr。

3、工件尺寸：300mm*300mm

4、工作节拍：8分钟/炉；镀铝为例

5、溅射电源：ae mdx直流电源 2台，ae rfg3001射频电源 1台

6、溅射及清洗匹配：全自动

7、气体控制：mks 质量流量控制器 3路

8、真空检测：mks 薄膜压力规

9、加热系统：红外加热 3kw

10、控制方式：全自动控制系统

4、镀膜种类

   该设备可以镀ti、ni、cr、al、cu、azo 、ito 、mo 等