multiprep™ 系统适用于高精微（光镜，sem，tem，afm，etc）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。 multiprep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触                  

 techprep™ 为multiprep™ 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制multiprep™所有功能。研磨盘转速范围（顺/逆时针）为5到350prm。除触摸开关控制所有功能外，还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准；自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。 

特点：

· 测微计控制样品的设置 

· 精确轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。 

· 数字千分表显示样品行程，增量1微米。（实时） 

· 双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），10°幅度， 0.02° 增量。 

· 6倍速样品自动摆动。     8倍速样品自动旋转。 

· 样品调整范围：0-600克（100克增量）    数字记时器与转速计 

· 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。 

· 符合ce标准 美国设计制

item no. 规格 15-2000 multiprep™ 研磨配套设备  包括：10-1000（-230）techprep™抛光机，10-1005 8”铝制研磨盘，润滑油圈和研磨盘罩，15-1000-1 multiprep™，15-1020平行抛光装置，15-1030刻度指示盘套装工具，附件盒，50-30076金刚石薄膜分类包，90-150-350 red final c抛光布，180-20015 0.05微米硅胶悬浮液(16 oz)，multiprep说明cd 15-2000-230 multiprep™ 研磨配套设备 230v 50/60hz 附件:  10-1005 techprep™ 8"(203mm)铝制研磨盘