本实验室以清华大学摩擦学国家重点实验室的人才、研究成果为基础，将高新技术应用研究与基础研究相结合，面向经济建设主战场，致力于提高中国的抛光技术水平。
主要研究方向：
原子平整表面加工技术―― 计算机硬盘盘片超精表面cpm技术，半导体材料超精表面抛光技术，大规模集成电路cmp技术等。
非均质材料表面抛光技术 ――计算机磁头超精表面抛光等。
润滑与表面改性技术 ――计算机硬盘系统润滑技术、计算机磁头表面的改性技术、微机械表面改性、纳米间隙气体润滑理论等研究。
金属表面精细抛光技术――不锈钢、铜、铝及其合金、锌、铬等金属表面的高速精细抛光技术等。
其它相关技术――光纤连接器、蓝宝石、光学玻璃等领域的相关超精表面抛光技术。
实验室拥有先进的实验条件，具备大量的分析测试仪器和制备装置，现有研究人员10余名，其中高级职称3名，硕士以上学历人员8名，博士研究生1名，硕士研究生2名。